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1.
光刻 -
https://baike.baidu.com/item/光刻
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光刻Photomasking，masking，photolithography，lithography，microlithography，是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。
是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
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2.
光刻工艺 -
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光刻工艺photolithography，是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
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3.
光刻胶 -
https://baike.baidu.com/item/光刻胶
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光刻胶Photoresist，又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。
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